勒铭 Epigrapher

CATIA V5 曲面刻字工具 · 免费分享

勒铭 Epigrapher

解析 TrueType 字体轮廓，通过 CATIA 曲面展开与包裹流程，在实体表面创建文字形状的阴刻凹槽或阳刻凸字。 不把平面文字直接投影到曲面，尽量避免字形变形和轮廓交叠。

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勒铭
H
V
TrueType outline to CATIA surface text

功能

为 CATIA 实体表面刻字而做。

字体轮廓解析

读取本机 TrueType 字体文件轮廓，直线保持直线，贝塞尔曲线转换为 CATIA 草图样条。

曲面流程

通过展开、字符曲面、包裹和后续实体操作创建文字，避免直接投影带来的曲面变形问题。

面上三点定位

在支持面上点取原点、水平点和垂直点，确定文字的 H、V 与曲面法向方向。

阴刻与阳刻

支持凹槽布尔移除和凸字布尔组合，深度方向按设置自动处理。

草图与几何集管理

字符轮廓、展开和中间曲面放入独立几何集，创建完成后自动隐藏辅助几何。

中英文界面

支持中文和英文界面，记录上次字体、设置项和常用字体选择频率。

下载

Windows 安装包

当前版本适合个人免费使用。安装后需要本机已安装并可正常启动 CATIA V5。

SHA256: 0CF0C908559C5FBD60EF0CBB13EFEC39C337439ADCA1D7BC3A4883346B860351

当前为临时安装包，明天会替换为更新版。安装时如果 Windows 提示未知发行者，请确认下载来源为本站，并核对上方 SHA256。

下载 Epigrapher_Setup.exe

操作流程

输入文字，点选方向，创建。

  1. 设置文字 输入文字，选择字体，设置字号、深度和阴刻或阳刻模式。
  2. 点选支持面 在 CATIA 实体上点取支持面原点、水平点和垂直点，必要时反向 H 或 V。
  3. 创建刻字 软件自动创建字体轮廓、辅助曲面、包裹曲面和最终实体布尔结果。